近期，隨著全球半導(dǎo)體市場(chǎng)逐漸回暖，光刻膠作為半導(dǎo)體工藝中不可或缺的重要材料，其生產(chǎn)廠商的訂單也開始增多，擴(kuò)大產(chǎn)能成了新風(fēng)向。例如，信越化學(xué)宣布，為了擴(kuò)大半導(dǎo)體光刻材料業(yè)務(wù)，決定在日本群馬縣伊勢(shì)崎市新建其第四座生產(chǎn)工廠。東京應(yīng)化宣布在韓國京畿道平澤市新建工廠，作為其在韓國的光刻膠研發(fā)、生產(chǎn)和銷售基地。當(dāng)前，日本企業(yè)占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng)約70%到90%的份額，特別是在高端的ArF和EUV光刻膠領(lǐng)域，市場(chǎng)占有率甚至超過90%，光刻膠也成為了日本在全球半導(dǎo)體制造鏈中的絕對(duì)依仗。

深耕細(xì)作造就光刻膠“霸主”

光刻膠被譽(yù)為“微納世界的畫家”，在半導(dǎo)體制造中，光刻膠要先被涂覆在硅片或其他襯底上，然后通過光照和后續(xù)蝕刻等處理，實(shí)現(xiàn)微細(xì)圖案的制作。這種高精度的制作技術(shù)，使得現(xiàn)代電子產(chǎn)品中的集成電路能夠?qū)崿F(xiàn)高復(fù)雜度和高集成度。光刻膠的優(yōu)良特性保證了半導(dǎo)體制造過程的一致性和可靠性，為高效生產(chǎn)提供了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

當(dāng)下的全球光刻膠市場(chǎng)，幾乎被來自日本的JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)、住友化學(xué)等企業(yè)所瓜分，也讓日本在全球半導(dǎo)體制造鏈中占據(jù)著舉足輕重的地位，這都源于日本長久以來的積累。

日本半導(dǎo)體材料的發(fā)展可追溯至20世紀(jì)50-60年代，隨著日本電子產(chǎn)業(yè)需求增長而迅速擴(kuò)張。在20世紀(jì)70-80年代，日本通過政府引導(dǎo)的“VLSI項(xiàng)目”集中研發(fā)資源，突破晶圓大口徑化、高純度硅材料制備等關(guān)鍵技術(shù)，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)奠定基礎(chǔ)。20世紀(jì)90年代，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國際競爭加劇，日本半導(dǎo)體器件市場(chǎng)份額下滑，但材料領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)繼續(xù)凸顯，企業(yè)專注于半導(dǎo)體材料的創(chuàng)新與供應(yīng)，如信越化學(xué)、SUMCO在硅晶圓領(lǐng)域建立領(lǐng)導(dǎo)地位，并實(shí)現(xiàn)了在光刻膠、電子氣體等關(guān)鍵材料的技術(shù)突破等。如今，日本半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)完成了從依賴外部技術(shù)到自主研發(fā)的轉(zhuǎn)變，并延續(xù)了對(duì)光刻膠等材料的純度與質(zhì)量的極致追求，以及對(duì)新興市場(chǎng)和技術(shù)趨勢(shì)的快速響應(yīng)，這些都鞏固了日本在全球半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈中的核心角色。

芯謀研究總監(jiān)張彬磊指出，日本企業(yè)擅長進(jìn)行產(chǎn)業(yè)垂直整合，芯片公司多采用IDM模式，在材料和零部件領(lǐng)域也習(xí)慣于本地配套、本土供應(yīng)。這種垂直整合產(chǎn)業(yè)文化使日本在光刻膠等材料逐漸建立起深厚的底蘊(yùn)，經(jīng)過長期積累形成了相對(duì)完備的半導(dǎo)體材料體系。

試圖左右光刻膠市場(chǎng)

如今，日本在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的地位已經(jīng)得到了全球的認(rèn)可，這也讓日本獲得了主動(dòng)權(quán)。日本政府曾多次限制光刻膠等半導(dǎo)體材料的出口，其中，影響最深遠(yuǎn)的就是2019年7月，日本政府宣布對(duì)出口韓國的半導(dǎo)體工業(yè)材料加強(qiáng)審查和管控，并將韓國排除在貿(mào)易“白色清單”以外。這些半導(dǎo)體材料包括含光刻膠、氟聚酰亞胺、氟化氫。但為應(yīng)對(duì)這一局勢(shì)，韓國政府牽頭，鼓勵(lì)韓國半導(dǎo)體材料企業(yè)加快研發(fā)，全力突破日本企業(yè)的壟斷，并最終成功突圍。2023年3月，日本政府決定解除限制向韓出口上述三種關(guān)鍵半導(dǎo)體材料的措施，將韓日出口貿(mào)易恢復(fù)至2019年7月之前的狀態(tài)。至此，長達(dá)四年的“日韓半導(dǎo)體貿(mào)易戰(zhàn)”才正式結(jié)束。

而此前，日本政府支持的投資基金“日本投資公司”（Japan Investment Corp，簡稱JIC）發(fā)布聲明，收購日本光刻膠制造商JSR，收購總額為9039億日元（約合人民幣419.6億元），包括凈有息負(fù)債在內(nèi)的收購總額將達(dá)到1萬億日元（約合人民幣464.2億元）規(guī)模。此舉也被市場(chǎng)普遍認(rèn)為，是日本政府要將光刻膠產(chǎn)業(yè)“國有化”。對(duì)此，賽迪四川平臺(tái)建設(shè)與運(yùn)營中心總經(jīng)理池憲念表示：“日本政府支持的日本產(chǎn)業(yè)革新投資機(jī)構(gòu)（JIC）對(duì)JSR的收購案，不僅僅是為了操控市場(chǎng)。首先，日本政府希望通過‘國有化’JSR，強(qiáng)化國內(nèi)供應(yīng)鏈穩(wěn)固，減少對(duì)外部供應(yīng)商的依賴，并且加強(qiáng)技術(shù)保護(hù)，提升其在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的國際競爭力?！?/p>

壟斷并非牢不可破

在全球半導(dǎo)體制造鏈中，各個(gè)國家都在根據(jù)自身所長，各司其職，但像光刻膠等半導(dǎo)體材料被日本如此壟斷的情況非常罕見，以至于日本可以從源頭控制全球半導(dǎo)體市場(chǎng)，因此，目睹了日本限制出口、抬高價(jià)格等操作后，各國也開始未雨綢繆，加快研發(fā)進(jìn)度，避免陷入無“膠”可用的境地。

事實(shí)上，企業(yè)不愿花時(shí)間和精力深耕光刻膠領(lǐng)域的原因在于，光刻膠的利潤并不高，在整個(gè)芯片產(chǎn)業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模也很小，世界半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計(jì)組織(WSTS)的數(shù)據(jù)顯示，2022年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模為5735億美元，其中光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模只有22億美元左右，不足整體半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模的1%，因此，日本的價(jià)格不高，質(zhì)量還好，所以各國才會(huì)對(duì)日本的光刻膠如此依賴。

張彬磊表示，日本雖然在光刻膠領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢(shì)十足，市場(chǎng)份額龐大，但材料領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)并非是難以逾越的，只要其他企業(yè)長期投入，這種差距是可以快速追趕的。

這點(diǎn)從韓國的突圍之路就能看出端倪。2019年，韓國光刻膠對(duì)日本的依賴度為80%。但韓國政府在被限制時(shí)并沒有坐以待斃，立刻牽頭一口氣投入了6萬億韓元的預(yù)算，鼓勵(lì)韓國的材料企業(yè)加快研發(fā)進(jìn)度。三星集團(tuán)更是投資了數(shù)十家韓國本土半導(dǎo)體設(shè)備和材料廠商，從化學(xué)材料供應(yīng)商，到陶瓷材料供應(yīng)商，全力突破日本企業(yè)的壟斷。2022年12月，這筆投入終于獲得了回報(bào)，韓國三星電子公司宣布，將東進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)的EUV光刻膠成功應(yīng)用于其芯片工藝生產(chǎn)線。東進(jìn)半導(dǎo)體成為韓國第一家將EUV光刻膠本土化至量產(chǎn)水平的公司。

因此，光刻膠等材料的技術(shù)突破，其門檻也許并沒有想象的那么高。如果其他國家的企業(yè)愿意投入，也有望取得突破。

其中，國家的政策和撥款支持顯得格外重要，各國政府都在出臺(tái)一系列政策，扶持本國光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

韓國政府為企業(yè)提供了低息貸款、稅收優(yōu)惠等支持，推動(dòng)企業(yè)建設(shè)新的生產(chǎn)線，提高產(chǎn)能。部分企業(yè)還通過海外并購、合資等方式，獲取先進(jìn)的光刻膠生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，進(jìn)一步提升光刻膠產(chǎn)業(yè)的競爭力。美國政府提出，在光刻膠生產(chǎn)、晶圓制造、封裝測(cè)試等環(huán)節(jié)加大財(cái)政撥款，加強(qiáng)國內(nèi)外企業(yè)合作，鼓勵(lì)外國制造商和材料供應(yīng)商在美國和其他盟國地區(qū)投資，通過立法改善國內(nèi)半導(dǎo)體制造生態(tài)系統(tǒng)。我國也提出了多條面向光刻膠生產(chǎn)企業(yè)的稅收優(yōu)惠等政策。

但日本政府同樣也在努力鞏固自身的光刻膠供應(yīng)能力，在價(jià)格和產(chǎn)量上占據(jù)絕對(duì)優(yōu)勢(shì)，因此，其他國家還需要給企業(yè)更多的支持和時(shí)間，厚積才能薄發(fā)。

責(zé)任編輯：許子皓